ASML lijft deel XTreme in

ASML neemt een groot deel van XTreme Technologies over nu het Japanse moederbedrijf van de EUV-bronontwikkelaar, Ushio, zich terugtrekt op zijn thuisbasis. Het gaat om de negentig mensen die XTremes vier EUV-bronnen in het veld onderhouden. Onderzoek en ontwikkeling verhuizen naar Japan.

XTreme Technologies, gevestigd vlak bij Aken, is ontstaan uit de samenvoeging van Philips Extreme UV, dat voortkwam uit activiteiten van Philips en het Fraunhofer-Institut für Lasertechnik, en XTreme Technologies, opgericht door Jenoptik en Lambda Physik. ASML geloofde aanvankelijk niet in de LDP-techniek die het bedrijf hanteerde om een productiewaardig EUV-bronvermogen te genereren, maar in 2009 kwam XTreme alsnog in de picture toen de bron van Cymer op dat moment niet goed genoeg was om op ASML‘s preproductietools te worden aangesloten. Onder meer Imec kreeg daarom een XTreme-bron.

De ambities van Ushio vielen echter alsnog in het water toen ASML bekendmaakte Cymer te willen overnemen. Hoewel de Veldhovense lithogigant formeel zaken blijft doen met externe bronmakers, hebben de Japanners kennelijk de indruk niet te kunnen concurreren met de ’interne‘ Cymer-bron. Zij richten hun aandacht nu op Nikon, dat aanzienlijk achterloopt in EUV-technologie.

Naast Ushio en Cymer is er nog derde brontwikkelaar: het eveneens Japanse Gigaphoton.