ASML helpt Sematech bij ontwikkeling EUV-infrastructuur

Paul van Gerven
Leestijd: 1 minuut

ASML heeft zich aangesloten bij Sematechs Lithografie-programma voor de ontwikkeling van EUV-technologie en de daarvoor benodigde infrastructuur. De partners zetten hun tanden in EUV-bronnen, fotolakken en andere materialen,  maskerdefecten en maskermetrologie. De samenwerking komt niet uit de lucht vallen: er staat al een EUV-researchtool op het College of Nanoscale Science and Engineering Albany Nanotech Complex, waar Sematech het onderzoek uitvoert, en ASML heeft er dan ook al mensen rondlopen.

De Veldhovenaren liggen op schema om later dit jaar de eerste machines naar klanten te verschepen. Die gaan er mee spelen om serieuze productie voor te bereiden. Vanuit de industrie klonken er echter geluiden dat de ontwikkeling van de EUV-infrastructuur daar geen gelijke tred mee hield, met name op het vlak van blanco maskers, maskerdefecten en -inspectie. Sematech pakte afgelopen zomer de handschoen op en ASML ondersteunt dat nu. ’Gezien de bestaande samenwerking, is dat niet meer dan logisch‘, zegt een woordvoerder van ASML.

Het partnerschap moet niet gezien worden als een teken dat Sematech en partners te weinig progressie hebben geboekt. ’Integendeel, de voortgang is bemoedigend. Het is een teken dat de grote obstakels voor een belangrijk deel uit de weg zijn geruimd. De problemen met maskers is vooral een financiële aangelegenheid‘, aldus de woordvoerder. ASML draagt zelf financieel niet direct bij, maar doneert wel de tijd van ongeveer twaalf werknemers.

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Inloggen

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.