ASML heeft euv-doelen voor het grijpen

Paul van Gerven
Leestijd: 1 minuut

Een euv-scanner in Veldhoven heeft onlangs over drie dragen gemiddeld 1400 wafers per dag verwerkt. Op de beste dag gingen er 1488 plakken doorheen – akelig dicht bij de doelstelling van 1500 per dag die aan het einde van het jaar bereikt moet zijn. Ook bij ASML’s klanten loopt de maximaal behaalde doorvoer gestaag op: één machine in het veld verwerkte 1200 wafers per dag.

ASML maakte dat gisteren bekend op de Semicon West-conferentie in San Francisco.  Ook op het gebied van beschikbaarheid en uptime is er verbetering te melden: vijf klantsystemen – allemaal de niet allernieuwste NXE:3300-modellen – draaiden vier weken gemiddeld met tachtig procent availability, met een piek van 89 procent. Het doel is tachtig procent voor álle machines aan het einde van het jaar.

Eerder deze week kondigde Gigaphoton aan 250 watt bronvermogen te hebben bereikt, maar dit getal is waarschijnlijk niet erg industrieel relevant. ASML zegt onder dezelfde condities drie jaar geleden al een vergelijkbare intensiteit te hebben bereikt. Desalniettemin verwelkomt de machinebouwer de Japanse stap vooruit. De twee bedrijven hebben regelmatig contact met elkaar.

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Inloggen

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.