ASML, ARCNL en TU Delft krijgen financiering voor e-beam metrologie

De Nederlandse Onderzoeksraad (NWO) heeft een subsidie toegekend aan de Technische Universiteit Delft (TU Delft), ARCNL en ASML om e-beaminspectie in halfgeleiderproductie te verbeteren. Met elektronenmicroscopie kunnen kleinere defecten worden gevisualiseerd dan met lichtgebaseerde technieken, maar daar staan de nodige nadelen tegenover: een (veel) lagere verwerkingscapaciteit, het beschadigen van de structuren op de wafer en het optreden van artefacten. Het project ‘Foundations for electron-beam metrology and inspection’ heeft als doel deze tekortkomingen te verhelpen.

‘Samen met ASML en onze collega’s bij ARCNL willen wij tot een beter fundamenteel inzicht komen in de processen die leiden tot schade en artefacten en dit inzicht gebruiken om tot snellere en betrouwbaardere beeldvorming met elektronen te komen’, zegt Jacob Hoogendoorn, universitair hoofddocent bij de afdeling Beeldvormingsfysica van de TU Delft.

De subsidie maakt deel uit van de call ‘Vraaggedreven samenwerkingsverbanden voor consortia’ in het Kennis- en Innovatieconvenant-programma (KIC), dat baanbrekende innovatieve oplossingen met maatschappelijke en economische impact sponsort. De bijdrage van NWO is bijna 2 miljoen euro, ASML investeert ruim 2,3 miljoen.